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等离子清洗机加工工艺技术设计构造制造方法-利来国际登录

发布时间:2021-12-18   作者:admin   浏览次数:92

1、一种陶瓷印刷表面处理加工用等离子体清洗机及清洗工艺
 [简介]:本技术提供了一种陶瓷印刷表面处理加工用等离子体清洗机,包括清洗腔和设置在清洗腔内部的等离子体清洗机构、下位支撑件、上位夹持件,下位支撑件包括下位伸缩电缸和支撑板,本技术还提供了一种陶瓷印刷表面处理加工用等离子体清洗机的清洗工艺,包含以下步骤;待清洗陶瓷件的放入及初清洗过程;待清洗陶瓷件的位置调整过程;待清洗陶瓷件的再清洗过程;陶瓷件的取出过程,此技术通过在离子体清洗机的清洗腔内部设置等离子体清洗机构、下位支撑件、上位夹持件等结构,并将下位支撑件设置成由下位伸缩电缸和支撑板构成,并将上位夹持件设置成由上位伸缩电缸、上位支架和夹持组件组合构成,从而通过对陶瓷体进行二次清洗,从而保证其清洗效果。
2、等离子清洗机
 [简介]:本技术提出一种等离子清洗机。等离子清洗机包括推料机构、转移机构、清洗机构、暂存机构和收料机构,推料机构用于将出料盒内的料条向外推出;转移机构包括转移组件和设于转移组件上的推送组件,转移组件可活动地设于机架上,以使得转移组件可在推料机构、清洗机构和暂存机构之间做回转运动,转移组件用于将推出的料条转移至清洗机构以及将清洗完后的料条转移至暂存机构;清洗机构用于对转移至其上的料条进行清洗;推送组件用于将已转移至暂存机构上的料条推送至收料机构;收料机构用于对推送至其上的料条进行收料。本技术的等离子清洗机,能够解决现有等离子清洗机的结构排布不合理而导致料条清洗效率低的问题。
3、转移机构及等离子清洗机
 [简介]:本技术提出一种转移机构及等离子清洗机。所述转移机构用于转移料条,所述转移机构包括安装架、夹持组件、承载组件及驱动组件,夹持组件包括多个第一夹持件和多个第二夹持件,多个第一夹持件和多个第二夹持件可活动地设于安装架且一一对应设置,第一夹持件和第二夹持件之间的间距可调,以使得第一夹持件和第二夹持件能够对料条进行夹持;承载组件上设有导槽,部分夹持组件可活动地设于导槽内;安装架设于驱动组件上,驱动组件用于带动夹持组件移动,以使得料条能够从导槽的一端转移至另一端。本技术的转移机构,能够解决现有料条在转移过程中容易变形的问题。
4、一种对激光炭黑清洁的真空等离子清洗机
 [简介]:本技术提供了一种对激光炭黑清洁的真空等离子清洗机,包括清洗机本体、框架和连接杆,所述清洗机本体正面一侧嵌入安装有清洁箱,所述清洁箱内部两侧的中间嵌入安装有转轴,所述连接杆的两端分别通过转轴与清洁箱内壁转动连接,所述框架下表面两侧的中间分别固定有连接块,所述连接块底端固定有套环,所述套环套装在连接杆上,套环与连接杆固定,所述框架分别位于连接杆的上方,所述框架下表面的四角处分别固定有弹簧,四个所述弹簧底端对应处的清洁箱内部两侧的前后两端分别固定有固定板,四个所述弹簧底端分别与四个固定板上表面固定。本技术具有放置清洗件的框架能够前后抬起,便于放置和取出清洗件,方便操作的优点。
5、一种等离子清洗机
 [简介]:本申请涉及清洗机的领域,尤其是涉及一种等离子清洗机,包括清洗机本体,所述清洗机本体下表面安装有多个移动轮,所述清洗机本体的一竖直侧面连接有支撑杆,所述支撑杆远离清洗机本体的一侧安装有与地面接触的支撑轮。本申请具有减小清洗机本体向前运动的过程中倾倒可能性的效果。
6、一种方便更换真空腔体的等离子清洗机
 [简介]:本技术提供了一种方便更换真空腔体的等离子清洗机,包括等离子清洗机主体,所述等离子清洗机主体内安装有真空腔体主体,所述等离子清洗机主体的前端安装有密封门,所述等离子清洗机主体的前端设置有安装板结构,所述安装板结构的内部对称设置有两个固定卡块,所述安装板结构的内部在位于两个固定卡块的内侧对称设置有两个一号弹簧。本技术所述的一种方便更换真空腔体的等离子清洗机,属于等离子清洗机领域,通过设置真空腔体固定结构,可以简化真空腔体主体安装和拆卸的步骤,从而最终可以提升真空腔体主体更换的效率;通过设置固定卡块以及一号弹簧,使其相互配合,可以便于真空腔体固定结构在闲置状态下的固定。
7、一种新型lcd等离子清洗机
 [简介]:本申请涉及一种新型lcd等离子清洗机,其包括清洗台和设置在清洗台上的等离子清洗机构,还包括上料机构和下料机构,上料机构设置在清洗台上且用于将lcd屏运送至清洗台上表面处进行清洗工作,上料机构与等离子清洗机构相邻;下料机构设置在清洗台上且用于将清洗完毕后的lcd屏运离清洗台的上表面,下料机构与等离子清洗机构相邻。本申请具有减少清洗过程中人力的使用,提升清洗的效率的效果。
8、一种用于等离子清洗机或蚀刻机的真空清洗结构及清洗工艺
 [简介]:本技术涉及一种用于等离子清洗机或蚀刻机的真空清洗结构,包括真空腔体,所述真空腔体内设置有可转动的公转盘,所述公转盘上设置有若干可转动的工件座。等离子清洗机的清洗工艺,应用于真空腔体内,在真空腔体内清洗过程中,同时转动用于放置有料盒的公转盘和用于放置工件的料盒。上述等离子清洗机的真空清洗结构及清洗工艺,通过设置转动的公转盘和在公转盘上转动的工件座,可以使电极盒上的工件均匀转动,清洗或蚀刻更加均匀。
9、便于维护的等离子清洗机
 [简介]:本技术涉及一种便于维护的等离子清洗机,包括等离子发生器,等离子发生器连接有喷xx,喷xx端部设有呈圆柱状设置的xx头,喷xx端部设有与xx头配合的安装孔,xx头包括与安装孔螺纹连接的管体,管体远离安装孔的一端向外凸出形成凸缘,管体外周面上圆周阵设有若干条形槽,条形槽沿管体轴线方向设置并且一端延伸至凸缘上,每个条形槽的底面上设有与管体内部连通的排气孔。在电离过程中,电机上产生的电弧会优先跟随气流从排气孔内排出,当电弧位于条形槽内时,电弧可以被锁定在条形槽内,通过设置排气孔以及条形槽,可以起到引弧以及灭弧的作用,这样电极上产生的电弧就不会从xx头喷出,可以有效提高使用过程中的安全性。
10、一种icp等离子体刻蚀用清洗机构
 [简介]:本技术提供了一种icp等离子体刻蚀用清洗机构,包括上料箱,所述上料箱的内腔设置有送料机构,所述上料箱左侧的内腔设置有导料机构一,所述送料机构包括开设在上料箱内腔前侧和后侧的两个导向滑槽。本技术通过送料机构和导料机构一的配合使用,将上料箱内腔中的硅片传递至清洗箱的内腔进行清洗,最终通过擦拭机构的设置,对硅片进行擦拭,即可达到自动上料、清洗全面和自动擦拭脱水的目的,该icp等离子体刻蚀用清洗机构,解决了现有的对硅片的清洗方式,大多通过人工对硅片表面进行简单的擦拭,此种清洗的方式,清洗效果较差,人工对硅片表面进行擦拭存在较大的遗漏风险,且人工擦拭效率低,费时费力的问题。
11、等离子清洗机的冷却装置
12、一种等离子清洗机
13、一种自动化等离子清洗机
14、等离子自动清洗机
15、一种微波等离子清洗机
16、一种直喷型等离子清洗机
17、等离子清洗机
18、一种自动化等离子电路板清洗机
19、等离子清洗机
20、一种汽车动力电池用等离子清洗机
21、等离子清洗机用上下料系统和全自动微波等离子清洗设备
22、条状等离子清洗机的料盒感应自动控制装置及其控制方法
23、一种超声等离子体微泡农药残留清洗机及其清洗方法
24、电极板及等离子清洗机
25、一种小型旋转等离子清洗机喷xx
26、一种太阳能电池板等离子清洗机
27、一种等离子清洗机
28、一种等离子体活化水农药清洗机
29、等离子清洗机
30、片式等离子清洗机高、低料盘交替机构
31、一种利用等离子清洗机洗液晶显示屏基板工艺
32、在线等离子清洗机
 
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